（原标题：冠石科技：公司光掩膜版项目建成后年产逾1.25万片）

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同花顺（300033）金融研究中心12月06日讯，有投资者向冠石科技（605588）提问， 美国限制全环绕栅极GAA：全环绕栅极GAA尖端芯片技术，先进芯片架构。

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GAA工艺核心在于多次光刻、刻蚀、沉积:核心步骤通过原子层沉积(ALD)技术完成！!公司掩模版是否可以用在GAA工艺上？

公司回答表示，尊敬的投资者，您好！公司光掩膜版制造项目正在投建过程中，项目建成后，将具备年产逾1.25万片半导体光掩膜版的生产能力，产品制程覆盖350-28nm（其中以45-28nm成熟制程为主），可广泛应用于高性能计算、人工智能、移动通信、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、消费类电子等众多产业涉及的集成电路半导体领域，能够满足多类晶圆设计、晶圆代工企业的采购需求，以及先进半导体芯片封装、半导体器件等产品的应用需求。谢谢！

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